雷射焦點延伸/多焦點元件

雷射多焦點繞射元件

雷射多焦點繞射元件可以在聚焦時,沿著光軸產生多個焦點,各焦點的距離可以被精確設計而控制。
以Fused Silica或ZnSe為基材,蝕刻繞射圖案,鍍上抗反射膜,可以勝任在高能量或高功率雷射的應用,且可以適合UV-IR各種不同波長的雷射,多焦點繞射元件不受雷射的輸出模態的影響,但會有最小的入射光束直徑限制
適合的應用:
雷射加工透明材料(如玻璃切割)、雷射微加工、眼科應用、光學傳感器、平行光變焦系統等。
標準展品列表使用說明:
  1. 先輸入左方Wavelength(λ)欄裡面的波長、External Focusing Lens欄裡面的聚焦鏡焦距、Refractive index of foci medium欄裡面的加工物件折射係數。
  2. 右方表格會依據剛輸入的參數列出相關的標準產品。
  3. Number of Foci: 表示產生的焦點數目。
  4. Average separation between foci[um]: 表示在搭配的聚焦鏡與介質枝條件時,各焦點之間的距離。
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