均勻光斑形狀經過設計可以是圓形、橢圓形、方形、長方形、線形；繞射元件上的圖案是經過精密的半導體蝕刻製程所製造，可以非常精確的控制雷射光束的發散角，從而控制均勻光斑的尺寸，由於在此區域範圍內的光強度分布是均勻的，因此可以更精準地控制單位面積光的強度(W/cm2)，在許多的應用上有很大的助益。
以Fused Silica或ZnSe為基材，蝕刻繞射圖案，鍍上抗反射膜，可以勝任在高能量或高功率雷射的應用，且可以適合UV-IR各種不同波長的雷射。
適合的應用：
- 雷射材料加工：表面處理、切割、鑽孔、劃線、焊接、燒蝕、退火
- 醫療美容之雷射治療
- 光致發光(PL)
- 雷射螢光顯微鏡
- 準分子雷射的均勻化
- 多模態輸出光纖雷射的均勻化
- 雷射局部升溫
標準產品列表使用說明：
請先按此連結到標準產品列表
- 先輸入左方Wavelength(λ)欄裡面的波長與Focal Length(EFL)欄裡面的聚焦鏡焦距。
- 右方表格會依據剛輸入的參數列出相關的標準產品。
- θf[deg]: 表示雷射經過此繞射元件後的發散角度。
- Image Size[mm] for EFL=xxx mm: 表示經過之前輸入的聚焦鏡焦距後產生的影像尺寸。
- Image Shape: 產生影像的形狀。