以Fused Silica或ZnSe為基材，在上面蝕刻繞射圖案，鍍上抗反射膜，可以勝任在高能量或高功率輸出雷射的應用，且可以適合UV-IR各種不同波長的雷射。
大多數的M型雷射整形片需搭配單模態(TEM00)的雷射光束，且需要特定的光束直徑與光束品質(M2)需<1.5，部分產品能搭配多模態雷射使用，在Remarks一欄內會標示"MM"。
標準產品列表使用說明：
- 先輸入左方Wavelength(λ) 欄裡面的波長與Focal Length(EFL)欄裡面聚焦鏡的焦距。
- 右方表格會依據剛輸入的參數列出相關標準產品。
- Beam Dia.[mm]: 表示需搭配的入射光束直徑。
- θf[mrad]: 表示雷射經過繞射元件後的發散角，單位為mrad，數字越小所產生的光斑越小。
- Image Size[um] for EFL=xxx mm: 雷射經過焦距為xxx mm之聚焦鏡產生的平頂光斑尺寸。
- Element Size[mm]: 元件的尺寸
- Image Shape: 產生光斑的形狀
- Remarks: 如標示MM為可以搭配多模態雷射射元件。
- Transfer Region[mrad]: 邊緣陡峭度，數字越小邊緣越陡峭。